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薄膜结构X射线表征(第二版)书籍详细信息

  • ISBN:9787030441959
  • 作者:暂无作者
  • 出版社:暂无出版社
  • 出版时间:2019-12
  • 页数:暂无页数
  • 价格:125.00
  • 纸张:胶版纸
  • 装帧:平装胶订
  • 开本:16开
  • 语言:未知
  • 丛书:暂无丛书
  • TAG:暂无
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内容简介:

本书结合作者二十多年来的工作积累和国内外**进展,系统介绍应用X射线衍射和散射技术表征薄膜微结构的多种基本实验装置、实验数据分析理论以及典型的薄膜微结构表征实例。全书分3篇(共19章):第1篇为基本实验装置(第1~3章),主要介绍X射线源、X射线准直和单色化、各种探测器以及薄膜X射线衍射仪和表面/界面散射装置。第2篇为基本理论(第4~10章),介绍薄膜X射线衍射和散射实验数据分析所用的相关理论,包括用于薄晶体或小晶体多层膜和金属多层膜的X射线衍射运动学理论;用于近完美多层膜、半导体超晶格和多量子阱的X射线衍射动力学理论;用于原子密度和晶格参数很接近的金属多层膜的X射线异常衍射精细结构理论;用于薄膜和多层膜表面与界面分析的X射线反射、漫散射理论以及掠入射衍射理论。基本覆盖了目前应用X射线衍射和散射技术研究薄膜结构所需要的理论。第3篇为薄膜微结构表征(第11~19章),介绍应用X射线衍射和散射技术表征薄膜微结构的实例,除了总结作者二十多年来在薄膜研究中所解决的微结构表征实例外,还尽量收集近年来国内外有关的重要结果,以供读者参考。薄膜的种类涉及半导体外延膜及超晶格材料、超导异质薄膜材料、金属磁性多层膜材料、软物质薄膜和有机半导体薄膜。表征的微结构包括单层膜和多层膜厚度、点阵参数、应力、表面与界面、缺陷、弛豫横向、调制结构以及钙钛矿结构氧八面体畸变。


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